EUV光刻胶：大批量生产仍待突破！EUV光刻胶大批量生产尚未完成。由比利时研究机构imec主办的ITF日本2025论坛于11月10日在东京君悦酒店举行。在新闻发布会上宣布，现任首席执行官卢克·范登霍夫将于2026年4月1日成为董事长，帕特里克·范德纳米尔将接任首席执行官。
范登霍夫自imec创立之初便给予支持，并自2009年起担任首席执行官，为imec如今的地位做出了卓越贡献。他被誉为“引领全球先进半导体发展路线图”的关键人物。自2025年4月起，他将担任董事长，负责监督imec的政治、外交和技术战略，并致力于支持imec的未来愿景和国际影响力。
新任首席执行官范德纳米尔拥有多年经验，曾担任imec执行副总裁，全面负责研发工作。他有望延续范登霍夫的愿景，成为一位“拥有深厚技术背景的首席执行官”，并进一步巩固先进工艺研究的实际应用和国际合作体系。
三井化学代表董事、高级常务执行董事兼ICT解决方案事业部总经理平原昭夫作了题为“化学与合作：促进未来半导体生态系统”的报告。平原昭夫提到光罩是极紫外（EUV）曝光技术面临的主要挑战之一。尽管ASML在过去十年中已交付超过300台EUV曝光设备，但EUV光刻胶仍存在诸多技术难题，目前尚未开发出符合大规模生产应用规格的光刻胶。因此，许多半导体制造商仍在不使用光刻胶的情况下进行EUV曝光。
